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利用磁性石墨烯實現2D自旋邏輯存儲技術
我與貝意克的故事---人物專訪
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卷對卷連續化生長CVD設備 RTR-III-80
設備型號:RTR-III-80 設備簡介:該設備為我司研發用于石墨烯薄膜連續生長或者線性材料的連續的專用設備,此款設備是快速冷卻卷對卷CVD連續生長爐,它由高溫生長腔體,三路質量流量計氣路系統,真空機組,石英管,冷卻裝置,收放卷的密封裝置,自動化控制系統組成,兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放銅箔或纖維絲的密封裝置),收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪,所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點,可以進行大面積、高質量石墨烯的規?;L或者線性材料的連續生長。(纖維生長工藝,配有纖維張力計,可以通過調節電機轉速,以便達到纖維連續進出且受力均勻)
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